第697章 直奔浸潤式光刻

    最優秀的光刻機，稼動率能夠到90%，但最差的，或許就只有50，60%。

    目前，獲得了來自飛利浦和intel大力支援的asml，雖然還是在製造krf光刻機，但他們光刻機的穩定性就大大超過了尼康佳能，一條生產線的稼動率甚至可以長期穩定在90%以上。

    至於鴻芯這邊，根據統計，稼動率是在70%到80%左右浮動，和尼康佳能差不多。

    “只有慢慢來，我們現在只有儘量優化流程，提高零部件標準，然後再細細打磨。”蘇遠山這邊提到稼動率，鄭振川也一陣煩惱。雙工件臺是好，但如果無法通過長時間的流水線生產的驗證，那也僅僅只是彌補缺陷罷了。

    “嗯，沒事。”蘇遠山點點頭:“工藝打磨可以慢慢來。我們本身就落後幾十年，現在是強行追上來的，有缺陷和不穩定很正常，慢慢吸取教訓，慢慢進步就是了。但研發不能慢下來。”

    “我希望你們直接就與林，趙團隊合作，直接跳過單純的arf光刻機……或者說，直接協同研發跨越193nm的光刻機！”

    他話音落下，這邊曲慧和沈浩然馬上便是一驚！

    “小山，你的意思是林博士他們解決了下一代光源了？”曲慧由於長年累月呆在鴻芯這邊，早已經對光刻機技術和發展瞭如指掌，知道目前國內雖然由趙凱東那邊實現了arf光源的突破，但arf在國外可是好幾年前就已經突破了……而且人家早就意識到了193nm的arf激光將會是光刻機發展的一個重要節點——這也是國產光刻機追上世界的重要機會。

    但人家意識得造，就意味著佈局得早。尼康早就拉了一幫人在搞157nm的f2準分子光源不說，老美那邊更是牛逼，國家能源局親自下場，組建了一支豪華的陣容直接瞄準了最低可到10nm波長的極紫外光源euv。

    而國內，則壓根沒有那個精力去搞。

    現在蘇遠山說的不是直接搞光源，而是直接搞光刻機……